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慧正资讯：8月19日，上海新阳发布2021年中报，年中报显示，2021年上半年公司实现收入4.4亿元，同增45.8%，归母净利1.1亿元，同增317%，扣非归母净利0.45亿元，同增76.4%；其中2021年Q2单季实现收入2.3亿元，同增33.4%，环增12.1%，归母净利1.05亿元，同增564%，环增35倍，扣非归母净利0.22亿元，同增39.5%；主要系晶圆制造用电镀液及清洗液等超纯化学产品营业收入大幅增长。报告期内非经常性损益0.63 亿元，主要是公司间接持有的中芯国际股权产生的公允价值变动收益。
报告期公司净利润较去年同比大幅上升的主要原因是：公司通过青岛聚源参与的中芯国际战略配售，会计上分类为以公允价值计量且其变动计入当期损益的金融资产计量，因此报告期内按照出资份额确认了公允价值变动收益金额7,438.54万元，影响净利润6,322.76万元。
氟碳涂料主要应用在重防腐领域，在建筑、钢结构以及桥梁防腐等领域应用广泛，其中建筑是我国氟碳涂料最大的应用市场。近年来，随着环保监管日益严格，市场对氟碳涂料的可降解性、环保性有了更高的要求，在此背景下，水性氟碳涂料市场规模逐渐扩大。我国氟碳涂料相关生产企业数量较多，市场竞争激烈，伴随市场需求升级，氟碳涂料市场整合不可避免，未来氟碳涂料市场将不断向头部优势企业聚集。
当前氟碳涂料依然是使用寿命最长的涂料品种，氟碳涂料的研究及应用一直以来都是涂料工业的研究热点。上海新阳氟碳涂料业务在2021年上半年实现营收2.03亿元，同比增长37%，毛利率为23.94%，比上年同期下降2.55%。
值得一提的是，报告期内，上海新阳完成完成向特定对象发行股票募集资金7.92亿元，发行2021年度第一期中期票据1亿元。再融资和双创债项目的成功发行，为公司重大在研发项目如晶圆制造用高端光刻胶、蚀刻液等项目的开展及第二生产基地项目的建设提供了充足的资金。
上海新阳公告，公司将支付4,800万元受让由超成科技转让的上海芯刻微材料技术有限责任公司(简称“芯刻微”)32%股权。芯刻微目前系公司的参股子公司，主要进行ArF浸没式光刻胶项目的研发。转让完成后，上海新阳持有芯刻微70%股权，超成科技持有芯刻微30%股权。
结构优化利润率提升带动整体毛利率提升
受益于产品结构的优化和电子化学材料相关业务毛利率的提升，上半年公司整体毛利率提升1.9%-36.5%，其中，电子化学材料业务实现营收1.7 亿元，同比增长48%，毛利率提升2.8%-49.8%；电子化学材料配套设备业务实现营收0.45亿元，同比增长95%，毛利率提升7.2%-45%；氟碳涂料业务实现营收2.0亿元，同比增长37%，毛利率降低到23.94%。
KrF光刻胶产品取得订单，光刻胶项目进展获得重大突破
上海新阳自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证，并成功取得订单。KrF光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF光刻胶产品的开发和产业化”取得了阶段性成功，为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。
上海新阳原创的氮化硅蚀刻液产品打破垄断，订单持续增长
公司承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单，累计收到订单3,000余万元，实现销售1,350余万元，打破了该产品一直以来被国外公司垄断的状况，为我国发展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。公司与客户合作开发的下一代产品，也已进入批量化测试阶段，公 司将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。
研发投入持续增加，创新能力稳步提升
本报告期研发投入总额7,653.95万元，占本期营业收入的比重为17.50%，其中半导体业务研发投入占半导体业务营收的比重为32.54%。在产品研发方面主要集中于集成电路制造用光刻胶、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、大马士革电镀添加剂、干法蚀刻清洗液、氟碳粉末涂料等项目，其中集成电路制造用光刻胶、氮化硅蚀刻液项目都已取得销售订单。公司主营业务正处于集成电路产业的密集投入及快速增长阶段，仍然保持着规模继续扩大，技术快速提升，产品不断更新的发展趋势。公司作为我国本土半导体材料行业的领先者，将会继续加大研发投入，保持技术领先和行业地位优势，把握良好的发展机遇，努力把公司打造成为中国乃至全球集成电路关键工艺材料的优质供应商。本报告期，公司申请发明专利15件。截至报告期末，公司已申请发明专利176件，其中国内发明专利168件（已授权66件），国际发明专利8件；已申请实用新型专利115件（已授权114件）。
再融资和双创债项目成功发行，为新阳注入新鲜动力
本报告期，公司完成向特定对象发行股票募集资金7.92亿元，发行2021年度第一期中期票据（高成长债）1亿元。再融资和双创债项目的成功发行，为公司重大在研发项目如晶圆制造用高端光刻胶、蚀刻液等项目的开展及第二生产基地项目的建设提供了充足的资金。在全球正面临缺少芯片的困境下，市场对于芯片的需求空前旺盛，随着下游客户芯片产能的逐步扩大，公司发行股份及债券募集资金的到位，能加速推进公司光刻胶及其他芯片制造关键工艺材料的开发及产业化，加快关键领域材料产品的进口替代，解决国家迫切需求。
国内唯一超纯电镀液供应商，合肥一期将于2022年初贡献产能
上海新阳是半导体制造用芯片表面处理功能性化学品领军企业之一，现已实现电镀、清洗、研磨、光刻胶四大产品线布局，多产品处于快速放量前期。公司是国内唯一能够满足28-90nm晶圆制造技术节点的超纯电镀液供应商和主流的清洗液供应商，下游客户覆盖中芯、华虹、长存、长鑫等主流厂商，电镀&清洗的超纯产品合肥一期新产能1.5万吨/年，将于2022年初投产，在供不应求背景下，打开公司产能瓶颈，超纯产品有望实现快速增长。
据了解，目前上海新阳主要竞争对手为美国、日本等国际知名半导体材料供应商，这些企业具有先发优势，长期处于垄断地位，因此产品价格一般较高。公司相对于国外厂商占据中国大陆的地理优势，本土化的服务模式有利于公司及时响应客户需求，灵活性较强，能够降低客户仓储和物流成本。公司有一支经验丰富的技术服务团队长期跟踪客户生产过程，为客户提供产品改进方案，直至完全达到客户的要求。国外竞争对手由于其核心技术人员在海外，因此其在响应速度、服务质量以及深度上远远不及公司。半导体行业更新换代快，下游客户不断开发新产品、新技术，相较于国际竞争对手未在国内设立研发中心，公司的研发团队在客户对产品和技术需求形成前即与客户沟通，建立紧密联系，研发或提升产品以满足客户需求。
资料显示，上海新阳创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市，现有员工280余人，厂区占地80余亩，拥有1000级超净厂房和设施齐备的现代化实验室。公司已荣获上海市集成电路关键工艺材料重点实验室、上海市高新技术企业、上海市小巨人企业、上海市外商投资先进技术企业、上海市重合同守信用AAA级企业等多项荣誉以及中国半导体创新产品和技术奖、上海市高新技术成果转化项目等多个奖项。
上海新阳始终坚持自主创新，拥有自主知识产权的电子电镀和电子清洗核心技术，先后开发研制出四大系列100多种电子化学品与30多种配套设备产品，形成了完整的技术体系和丰富的产品系列。已申请国家专利220余项，其中发明专利109项。用于晶圆电镀的高纯铜电镀液和添加剂系列产品达到世界领先水平，成为中国半导体封装化学材料和表面处理设备行业的知名品牌。
目前，上海新阳正致力于TSV、Bumping、MEMS、Solar等晶圆电镀、光刻胶剥离清洗等工艺所需高纯电子化学品与应用技术的开发。正全力进军半导体制造业、先进封装制造业、太阳能产业等新型产业。未来的上海新阳将跻身于世界一流的半导体材料供应商行列，成为全球电子专用化学材料领军企业。
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