上海新阳KrF(248nm)厚膜光刻胶产品成功取得首笔订单

2021年07月01日09:48 来源：慧正资讯

慧正资讯：6月30日晚间，上海新阳发布公告称，公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

上海新阳是中国集成电路制造和封测关键工艺材料龙头企业，已是中芯、长存、长鑫、长电、通富、华天等核心供应商。公司立足电子电镀、电子清洗、电子光刻三大核心技术。其中，KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，以及在半导体封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一。除此之外，上海新阳在集成电路制造芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化，被国内集成电路生产线认定为Baseline （基准线/基准材料）的数量为25条。是国内唯一一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业，在多个客户全球供应商评比中屡次获得第一名。

此次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功，为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

上海新阳表示，光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm 甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多，以及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长，公司光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用，有利于公司业务的长期发展。

随着全球缺芯潮继续蔓延，晶圆代工厂的扩产势能已传导至产业链上游。而光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，仍面临较大缺口。在国产化良机推动下，上述上海新阳也在加码半导体光刻胶的相关研发和产能建设。

此前，上海新阳拟募资开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品，力争于2023年前实现上述产品的产业化，目前已购买数台光刻机用于193nm ArF干法光刻胶和28nm 的高端光刻胶的研发。预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售， 2022年可实现量产；预计ArF （干式）光刻胶项目在2022年可实现少量销售， 2023年开始量产，预计2023年各项产品销售收入合计可达近2亿元。

据2020年财报显示，2020年1-12月营业总收入为693,885,788.88元，比上年同期增长8.25%；归属于上市公司股东的净利润为274,335,577.72元，比上年同期增长30.44%。

谈及业绩的变动原因，上海新阳表示，2020年克服了新冠疫情带来的不利影响，并抓住半导体行业发展机遇，积极进行产业结构布局，主营业务收入持续稳步增长。其中，半导体业务增长达到20%以上，晶圆制造及先进封装用电镀及清洗液产品销售实现大幅增长。公司长期以来的高研发投入在当前的经济环境下取得了较大优势。

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