上海新阳预计2020年度净利润达2.9亿元得益于晶圆制造等产品大幅增长

2021年01月21日11:56 来源：慧正资讯

慧正资讯：1月20日，上海新阳发布业绩预告，预计2020年归属于上市公司股东的净利润2.60亿元~2.90亿元，同比增长23.62%~37.89%；业绩变动主要原因是，报告期内，公司营业收入和净利润持续稳步增长。主要原因是公司晶圆制造和先进封装用电镀液及清洗液系列产品销售同比实现了大幅度增长。

前三季度营利逐季递增光刻胶项目同比增加近50%

公告显示，报告期内，公司光刻胶项目研发及其他科技项目的研发投入比去年同期增加近50%，同时对外融资增加，财务费用支出比重有明显上升。报告期内，预计非经常性损益对净利润的影响额约为2.2亿元，主要是本报告期按照金融工具准则对以公允价值计量且其变动计入当期损益的金融资产部分确认了公允价值变动损益所致。

2020年4月24日，上海新阳发布2019年年度报告，2019年公司实现营业收入6.410亿元，同比增长14.54%，归属于上市公司股东的净利润2.103亿元，同比增长3059.82%。2019年年报还显示，上海新阳的主营业务为涂料行业、半导体行业，占营收比例分别为：57.46%、42.54%。

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2020年上海新阳前三季度营收利润数据

2020年年初，突如其来的新冠疫情让许多行业都面临困境，业绩整体下滑也非常明显。但是在这样的大环境下，上海新阳却实现了逆势增长。2020年前三季度营收与利润逐季递增，第三季度利润达到1.51亿元。在运用各种新科技和技术的探索中，上海新阳不会止步；在为客户提供更优质产品的过程中，上海新阳也不遗余力。根据各大券商对上海新阳净利润的预测，上海新阳2020年年度预测净利润平均值为1.17亿元。上海新阳去年同期净利润为2.1亿元。

随着疫情持续蔓延，晶圆制造长期影响逐步显现出来，主要体现在供应链以及产业链下游的市场需求层面。专家认为，疫情不改半导体产业全球协同的趋势，但由于半导体产业链长而且复杂，即使小到一枚电阻电容，如果缺少了就会造成问题。疫情之后，晶圆制造产能在全球范围内分散化布局可能会进一步加强。

资料显示，上海新阳主要从事半导体专用化学材料及配套设备的研发设计、生产制造、销售服务。目前主要产品为半导体领域专用的电子化学品及其配套设备产品。

公司的核心技术主要集中在电子电镀和电子清洗两大方向，在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。除了半导体传统封装的电子化学品外，公司还拓展至半导体硅片、半导体湿法制程设备、高分辨率光刻胶产品生产领域。公司晶圆化学品已经进入中芯国际、无锡海力士、华力微电子、通富微电、苏州晶方、长电先进封装等客户，其中在芯片铜互连电镀液产品方面已经成为中芯国际28nm技术节点的Baseline，无锡海力士32nm技术节点的Baseline；用于晶圆制程的铜制程清洗液和铝制程清洗液已初步实现稳定供货。

研发高端光刻胶力求打破国外垄断

2020年8月14日，上海新阳发布公告称，公司拟定增募资15亿元进行高端光刻胶研发，力求打破国外垄断，填补国内空白。该项目计划总投资10.46亿元，拟使用募集资金8.15亿元，主要开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品及配套试剂，力争于2023年前实现上述产品的产业化。

上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、研发周期长、投资需求大，上市公司业绩当前不足以支撑该产品的开发，所以公司通过引进合作方共同出资的方式进行产品研发，从而加快高端光刻胶产品国产化替代进度。

2020年1月5日，上海新阳公告，公司与北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司签署上海新阳与北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司签订《合作框架协议》。

双方将合作在北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司指定工厂搭建光刻胶验证平台，该平台由ArF光刻机和涂胶显影机组成，用于先进光刻胶验证；双方将在ArF(193nm)干法光刻胶产业化领域采取多样化的模式，开展广泛、深入的合作。未来，公司将采购的用于193nm ArF干法光刻胶研发的ASML-1400光刻机放置于合作方指定的地点，双方正在沟通协商光刻机入厂的底座安装及制作事宜，待底座安装完成后，光刻机即可进入合作方进行调试使用。预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。

二十余年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到世界领先水平。公司已立项研发集成电路制造用高端光刻胶及配套材料，拥有完整自主可控知识产权的高端光刻胶产品即将形成公司的第三大核心技术。

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