万人撤离！美国陶氏化学总部被淹

2020年05月22日10:21 来源：半导体圈子

慧正资讯：据媒体消息，当地时间5月19日下午，美国内陆密歇根州位于五大湖附近的一处名为edenvilled水坝突然溃决，猛烈下泄的洪水此后又连续冲垮了下游的smallwood大坝和sanfor大坝，随后凶猛的洪水涌入密歇根州米德兰市区。

那为什么突然发生溃坝？

溃坝的原因一般来说就是水坝建筑质量不高或者是降雨过多，从目前来看，这一次溃坝事件很可能和下雨太多有关——美国国家气象局称，这一次出现溃坝的河流在5月20日达到11.58米的最高水位，比有记录以来的最高水位还高出约1.22米，如此高水位的运行很有可能是导致水坝溃坝的元凶，在洪灾发生后，当地已有约1万人撤离。

从目前来看，根据河道走向，从此次溃坝的最终流向将可能转为东北流入五大湖中的休伦湖，接下来的不少城市还可能有洪灾风险，由于美国目前正面临新冠肺炎的肆虐，这次溃坝也让不少笼罩于疫情阴云下的居民再添上一道阴霾。

但令一些学者担心的是，此次河段下游是一家著名企业陶氏化学的总部，包含三家大型化工厂区，据当地政府估计，米徳兰化工基地将有一半区域被淹没，目前还暂时不清楚洪水可能对化工厂造成的影响，并且未来对下游和休伦湖生态的影响也还不能确定，一些专家提出了警告。

陶氏是世界上最大的综合性化工企业和有机硅巨头企业，陶氏产品种类极多，涵盖粘接、封装、隔热、绝缘等多类电子化学品。

陶氏的半导体技术业务部主要服务于半导体市场的两个核心领域：化学机械研磨和光刻技术。

化学机械研磨产品：半导体技术业务部为半导体、硅片和存储介质的研磨和平面化提供材料，包括：软研磨垫和硬研磨垫、独特的研磨浆料

光刻产品和材料：半导体技术业务部提供先进的光刻胶用在半导体晶圆上制作出电路图形、抗反射涂层以改善成像、和电镀化学品，包括：193纳米浸入式光刻材料、193纳米光刻胶、抗反射涂层(BARCs 、垫层材料(Underlayers 、表面涂层材料(Topcoats 、各种不同曝光光源用光刻胶，EUV、KrF（248nm）、ArF（193nm）、i-线、g-线光刻胶、193纳米（ArF）和248纳米（DUV）光源用抗反射涂层、显影液和辅助化学品。

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